PSDP-UVT 內置加熱盤系列：

  PSDP-UVT 新增加一個加熱盤，將PSDP-UV的能力提升到了新的水平，使其能***化的分解有機分子物質。帶PID反饋回路的數(shù)字控制器能**保持熱盤的溫度，溫度范圍可達150攝氏度。

  選項：OES-1000D臭氧消除系統(tǒng)（內置真空泵和催化型臭氧中和器，用于清洗完成后的臭氧消除）

  ？數(shù)字控制加熱盤可以設置高達150攝氏度

  ？可調節(jié)托盤高度

  ？安全開關防止使用者被紫外光照射

  ？可編程數(shù)字控制器

  ？數(shù)字顯示倒計時

  ？可執(zhí)行暫停和終止指令

  ？內部存儲器用于記錄之前的參數(shù)設置

  ？高利用率和高靈活性

  ？室溫操作，使用空氣或是氧氣

  一般特性：

  電源：100.120.20.240VAC.50-60周期。

  樣品高度：所有系統(tǒng)都配置可調節(jié)高度的樣品臺，調節(jié)燈與樣品之間的間距，并帶位置鎖定，標準樣品臺尺寸為UV格柵燈大小或更大。

  UV格柵燈：產(chǎn)生臭氧的低壓汞格柵燈，帶反射罩。燈管壽命大約為5000小時。

  UV反射罩：UV反射罩一般比UV格柵燈大一英寸。比如4×4英寸燈管反射罩尺寸是5×5英寸。

  樣品放置：打開清洗腔上蓋，露出樣品臺，允許360度裝入樣品。

  安全裝置：當清洗腔打開時，系統(tǒng)安全鎖會關掉UV燈。

  進出氣口：標準配置2個氣接口，可選更多。

  真空反應腔：選項客戶化定制，鋁或石英材料。

  溫度范圍：高達150攝氏度。

  臭氧中和器：中和器和泵用于臭氧排除。（PSD和PSDP選項）

  工作原理：

  PSDP-UVT系列產(chǎn)品通過產(chǎn)生185nm和254nm高強度UV光分解有機分子（污染物）。185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時激發(fā)表面的有機分子，使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短并且同時也被254nm光分解，樣品臺可以調節(jié)樣品到燈管的距離來優(yōu)化性能。PSD和PSDP分解有機污染物，然后形成CO2和H2O蒸氣，同時也將臭氧分子轉變成氧分子。

  典型應用包括：

  ?表面的原子級清洗

  ?聚合物粘接

  ?去除有機分子

  ?釋放捕獲的無機分子

  ?微流控制作

  ?微米/納米構型

  ?紫外光固化

  ?表面化學改性

  ?表面殺菌

  ?表面氧化

  ?金屬粘結準備……

2019/11/22